【摘要】 本发明提供一种复合阴极箔，包括：一铝基材；一金属层，形成于该铝基材上，其中该金属是选自由IVB族、VB族与VIB族元素所组成的族群；一金属碳化物层，形成于该金属层上；以及一碳层，形成于该金属碳化物层上。本发明另提供一种包含此复合阴极箔的固态电解电容器。 【专利类型】发明申请 【申请人】财团法人工业技术研究院 【申请人类型】科研单位 【申请人地址】中国台湾新竹县 【申请人地区】中国 【申请人城市】台湾省 【申请号】CN200810185732.7 【申请日】2008-12-08 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101752091A 【公开公告日】2010-06-23 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101752091B 【授权公告日】2012-03-14 【授权公告年份】2012.0 【IPC分类号】H01G9/04; H01G9/15; H01G9/14; H01G9/004 【发明人】黄震宇; 吴金宝; 蔡丽端; 吕明生 【主权项内容】一种复合阴极箔，包括：一铝基材；一金属层，形成于所述铝基材上，其中所述金属是选自由IVB族、VB族与VIB族元素所组成的族群；一金属碳化物层，形成于所述金属层上；以及一碳层，形成于所述金属碳化物层上。 该数据由<>整理 【当前权利人】财团法人工业技术研究院 【当前专利权人地址】中国台湾新竹县 【引证次数】3.0 【被引证次数】17 【他引次数】3.0 【被自引次数】1.0 【被他引次数】16.0 【家族引证次数】4.0 【家族被引证次数】17
