【摘要】 一种散热模块的表面镀膜方法包括以下步骤：提供一散热模块；清洁该散热模块的表面；将该散热模块设置于一工作环境，在该工作环境中导入一氢气与一四甲基硅烷气体，施加一外加电力而在该工作环境中产生一偏压电场，借以在该散热模块的表面形成一附着膜；在附着膜的表面形成一混合膜；以及在混合膜的表面形成一具有非晶质结构的碳素膜，借以制成一镀膜散热模块。在混合膜中，越远离散热模块处，非晶质结构的碳素材料的含量越高。 【专利类型】发明申请 【申请人】林玉雪 【申请人类型】个人 【申请人地址】中国台湾台北市 【申请人地区】中国 【申请人城市】台湾省 【申请号】CN200810180405.2 【申请日】2008-11-26 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101736312A 【公开公告日】2010-06-16 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101736312B 【授权公告日】2012-11-21 【授权公告年份】2012.0 【IPC分类号】C23C16/26; C23C16/513; C23C16/455; H05K7/20; C23C16/50 【发明人】林玉雪 【主权项内容】一种散热模块的表面镀膜方法，其特征在于包括以下步骤：(a)提供一散热模块；(b)清洁该散热模块的表面；(c)将该散热模块设置于一工作环境中，导入一氢气与一四甲基硅烷气体至该工作环境中，施加一外加电力而在该工作环境中产生一偏压电场，借以在该散热模块的表面形成一附着膜；(d)导入该氢气、该四甲基硅烷气体与一烃类气体至该工作环境中，借以在该附着膜的表面形成一混合膜，使该混合膜含有一具有非晶质结构的碳素材料与该附着膜所含的成分，且在该混合膜中，越远离该散热模块处，该具有非晶质结构的碳素材料的含量越高；以及(e)导入该氢气、该四甲基硅烷气体与该烃类气体至该工作环境中，借以在该混合膜的表面形成一非晶质结构的碳素膜，进而制成一镀膜散热模块。 【当前权利人】林玉雪 【当前专利权人地址】中国台湾台北市 【被引证次数】1 【被他引次数】1.0 【家族引证次数】7.0 【家族被引证次数】1
