【摘要】 本发明涉及一种监控制程的系统，其包括：一二维正交图，具有一与晶圆的晶圆量测值有关的第一轴和一与既定制程的制程总值有关的第二轴，且二维正交图中具有一封闭环状的控管限度；以及一标示体，其显示制程总值和晶圆量测值于二维正交图中。 【专利类型】发明授权 【申请人】华亚科技股份有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】中国台湾桃园县龟山乡华亚科技园区复兴三路667号 【申请人地区】中国 【申请人城市】台湾省 【申请号】CN200810086665.3 【申请日】2008-03-20 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101540270B 【公开公告日】2010-11-10 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101540270B 【授权公告日】2010-11-10 【授权公告年份】2010.0 【IPC分类号】H01L21/00; H01L21/66 【发明人】林资程; 田昀宗; 陈俊琦; 李艺锋 【主权项内容】一种监控制程的系统，其包括：一二维正交图，其具有一个与晶圆的晶圆量测值有关的第一轴和一个与既定制程的制程总值有关的第二轴，且二维正交图中具有一个封闭环状的控管限度，所述封闭环状的控管限度由过去多个最佳化制程所得到的多个最佳化晶圆量测值和制程总值统计而得；一个用于将所述制程总值和所述晶圆量测値的目标值显示于所述二维正交图中的目标位置；以及一标示体，其显示制程总值和晶圆量测值于二维正交图中。 【当前权利人】美光科技公司 【当前专利权人地址】美国爱达荷州 【引证次数】5.0 【他引次数】5.0 【家族引证次数】5.0 【家族被引证次数】7
