【摘要】 本发明提供一种显示面板及其方法，此方法包含提供基板；形成晶体管元件于基板上，其中晶体管元件自基板依序包含栅极层、栅极介电层、包含源极/漏极扩散区及通道区于其间的半导体层、源极/漏极电极、绝缘层以及透明电极；形成凹凸状结构于基板上，且与晶体管元件相邻，其中凹凸状结构是在晶体管元件的源极/漏极电极形成前，通过选自形成栅极层、栅极介电层、以及半导体层的工艺所形成；以及形成电容元件于凹凸状结构，其中电容元件与凹凸状结构共形，且电容元件通过形成源极/漏极电极、绝缘层以及透明电极的工艺所形成。 【专利类型】发明授权 【申请人】友达光电股份有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】中国台湾新竹市 【申请人地区】中国 【申请人城市】台湾省 【申请号】CN200810082384.0 【申请日】2008-03-04 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101236933B 【公开公告日】2010-12-01 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101236933B 【授权公告日】2010-12-01 【授权公告年份】2010.0 【IPC分类号】H01L21/84; H01L27/12; G02F1/136; G02F1/1362 【发明人】林祥麟; 方国龙; 林敬桓 【主权项内容】一种形成显示面板的方法，其特征在于，所述方法包含： 提供基板； 形成晶体管元件于所述基板上，其中所述晶体管元件自所述基板依序包含栅极层、栅极介电层、半导体层、源极/漏极电极、绝缘层以及透明电极； 形成凹凸状结构于所述基板上，且与所述晶体管元件相邻，其中所述凹凸状结构是在所述晶体管元件的所述源极/漏极电极形成前，通过选自形成所述栅极层、所述栅极介电层、以及所述半导体层的工艺所形成；以及 形成电容元件于所述凹凸状结构，其中所述电容元件与所述凹凸状结构共形，且所述电容元件是通过形成所述源极/漏极电极、所述绝缘层以及所述透明电极的工艺所形成。 【当前权利人】友达光电股份有限公司 【当前专利权人地址】中国台湾新竹市 【引证次数】6.0 【自引次数】1.0 【他引次数】5.0 【家族引证次数】6.0 【家族被引证次数】7
