【摘要】 一种制作高温微米尺度散斑的方法，属于光测力学技术领域。本发明的技术特点是在电子束曝光机这一成熟商品仪器环境下，完成高温微米尺度散斑的制作，该方法操作简单、灵活，容易实现。通过改变电子束光学曝光系统的放大倍数、束流强度和刻蚀时间，制作出可变密度、可变深度、可变尺寸的散斑，适用于高温环境下不同材料的微观变形行为的研究。 ： 【专利类型】发明授权 【申请人】清华大学 【申请人类型】学校 【申请人地址】100084 北京市100084信箱82分箱清华大学专利办公室 【申请人地区】中国 【申请人城市】北京市 【申请人区县】海淀区 【申请号】CN200810101918.X 【申请日】2008-03-14 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101240996B 【公开公告日】2010-06-23 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101240996B 【授权公告日】2010-06-23 【授权公告年份】2010.0 【IPC分类号】G01B11/16; G03F7/16; G03F7/20 【发明人】谢惠民; 李艳杰; 岸本哲; 戴福隆 【主权项内容】一种制作高温微米尺度散斑的方法，其特征在于该方法包括如下步骤：1)利用计算机软件模拟一幅散斑图或者打开一幅已有的散斑图，将散斑图转化为二值图；2)将试件切割成所需要的形状，经清洗、抛光；3)利用真空镀膜装置在试件表面镀一层厚度为0.3～0.5μm的耐高温薄膜，利用甩胶机在耐高温薄膜表面均匀涂布一层光刻胶；所述的耐高温薄膜为金属薄膜；4)将试件平放在电子束曝光系统的载物台上，使镀膜的表面朝上，调整电子束曝光系统的放大倍数，预设置束流强度和曝光时间，根据得到的二值图对试件表面进行电子束曝光，经过显影、定影后，光刻胶表面呈现随机分布的沟槽结构，观察该沟槽结构是否清晰，如果不清晰则不断重复调整束流强度和曝光时间，直至观察到清晰的沟槽结构为止；5)在具有沟槽结构的光刻胶表面再镀一层与步骤3)中的薄膜不同的另一金属薄膜，该另一金属薄膜的厚度为0.3～0.5μm，这两种金属薄膜的热膨胀系数与试件材料的热膨胀系数一致或接近；6)腐蚀掉剩余的光刻胶，最终在试件表面得到高温微米尺度散斑。 【当前权利人】清华大学 【当前专利权人地址】北京市100084信箱82分箱清华大学专利办公室 【专利权人类型】公立 【统一社会信用代码】12100000400000624D 【被引证次数】10 【被自引次数】6.0 【被他引次数】4.0 【家族被引证次数】33
