【摘要】 本发明公开了一种镜头阴影校正系数确定方法、镜头阴影校正方法及装置。包括：根据训练图像得到每个像素点的参考校正系数；由所述参考校正系数生成像素点坐标平面上的二维校正曲面；采用像素点坐标的二元高次幂多项式拟合所述二维校正曲面；根据所述多项式计算出与每一像素点坐标对应的镜头阴影校正系数，根据确定出的镜头阴影校正系数对该镜头拍摄的图像进行进行镜头阴影校正处理。本发明方法适用于对各种类型的镜头拍摄的图像进行镜头阴影校正，且图像校正效果较好，实现简单。。 【专利类型】发明授权 【申请人】北京中星微电子有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】100083 北京市海淀区学院路35号世宁大厦15层 【申请人地区】中国 【申请人城市】北京市 【申请人区县】海淀区 【申请号】CN200810104875.0 【申请日】2008-04-24 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101271196B 【公开公告日】2010-12-08 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101271196B 【授权公告日】2010-12-08 【授权公告年份】2010.0 【IPC分类号】G02B27/00; G06T5/00 【发明人】谌安军; 王浩 【主权项内容】一种镜头阴影校正系数确定方法，其特征在于，包括：根据训练图像得到每个像素点的参考校正系数，具体为：获取训练图像各像素点的标准像素值，以及获取用镜头拍摄所述训练图像后得到的拍摄图像的各像素点的真实像素值，计算每个像素点的真实像素值与其标准像素值的比值，得到每个像素点的参考校正系数；由所述参考校正系数生成像素点坐标平面上的二维校正曲面，具体为：根据每个像素点的横坐标、纵坐标以及参考校正系数生成像素点坐标平面上的二维校正曲面；采用像素点坐标的二元高次幂多项式拟合所述二维校正曲面，具体为：设置以像素点横、纵坐标为变量的二元高次幂多项式，确定多项式的权重系数，得到二元高次幂多项式；根据所述多项式计算出与每一像素点坐标对应的镜头阴影校正系数，具体为：将每一像素点坐标代入所述二元高次幂多项式中，计算出与每一像素点坐标对应的镜头阴影校正系数。 【当前权利人】北京中星天视科技有限公司 【当前专利权人地址】北京市海淀区学院路35号世宁大厦六层602号 【专利权人类型】有限责任公司(外国法人独资) 【统一社会信用代码】911101087002349407 【家族被引证次数】27
