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石英晶片低温频温曲线测试装置专利

发布时间:2026-06-12

【摘要】 本发明涉及一种石英晶片低温频温曲线测试装置,由晶片试验装置、铂电阻、电路组件、频率测量系统和电缆线组成,晶片试验装置包括晶片安装板(1)、温控法兰(2)、加热片(3)和温控盖板(7),晶片安装板(1)整体呈倒置的π形,突台式温控法兰(2)扣在晶片安装板(1)上,形成一个放置被测晶片的空间,温控法兰(2)的上部设置有圆形的加热片(3),加热片(3)的上部设置有圆形的温控盖板(7),突台外的圆形底板上均布有数个与冷屏的安装孔(9),可以通过螺钉将温控法兰2的外圈与冷屏接触且固定。本发明填补了国内空白,采用冷屏降温、加热片升温的方式,可以高精度的测试晶片性能。 【专利类型】发明申请 【申请人】北京卫星环境工程研究所 【申请人类型】科研单位 【申请人地址】100094北京市海淀区友谊路104号 【申请人地区】中国 【申请人城市】北京市 【申请人区县】海淀区 【申请号】CN200810188070.9 【申请日】2008-12-29 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101769911A 【公开公告日】2010-07-07 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101769911B 【授权公告日】2014-09-03 【授权公告年份】2014.0 【IPC分类号】G01N33/00; G01K7/18 【发明人】臧卫国; 易忠; 杨东升; 于钱 【主权项内容】一种石英晶片低温频温曲线测试装置,由晶片试验装置、铂电阻、电路组件、频率测量系统和电缆线组成,晶片试验装置包括晶片安装板(1)、温控法兰(2)、加热片(3)和温控盖板(7),其特征在于,晶片安装板(1)整体呈倒置的π形,温控法兰(2)是一个突台法兰,扣在晶片安装板(1)上,形成一个放置被测晶片的空间,温控法兰(2)的上部设置有圆形的加热片(3),加热片(3)的上部设置有圆形的温控盖板(7),加热片(3)和温控盖板(7)的直径与突台的内径相同,突台外的圆形底板上均布有数个与冷屏的安装孔(9)。 【当前权利人】北京卫星环境工程研究所 【当前专利权人地址】北京市海淀区友谊路104号 【统一社会信用代码】121000004000058478 【引证次数】4.0 【被引证次数】2 【他引次数】4.0 【被自引次数】2.0 【家族引证次数】4.0 【家族被引证次数】2

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