【摘要】 一种多层型的导光板制造方法，包括以下步骤：提供导光基片；在导光基片的表面上涂布高反射率基材，以形成光反射层；以低波长激光蚀刻光反射层，使光反射层形成有多个成数组式排列的光通孔；在光反射层的表面上涂布高导光基材，以形成导光基材膜；及在导光基材膜上设有多个具有聚光效果的聚光体，聚光体对应于光反射层的光通孔，因而实现快速生产制造而成一体化的目的。 数据由整理 【专利类型】发明申请 【申请人】鑫佑光电科技股份有限公司; 东莞广明电子有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】中国台湾台北县 【申请人地区】中国 【申请人城市】台湾省 【申请号】CN200810180949.9 【申请日】2008-11-18 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101737727A 【公开公告日】2010-06-16 【公开公告年份】2010 【IPC分类号】F21V13/00; F21V8/00; F21V7/22; F21V5/00; G02B6/00; G02F1/13357 【发明人】黄日昇; 丁玉森; 袁培泰 【主权项内容】一种多层型的导光板制造方法，其特征在于，包括下列步骤：提供一导光基片；在该导光基片的一表面上涂布高反射率基材，以形成一光反射层；以低波长激光蚀刻该光反射层，使该光反射层形成有多个成数组式排列的光通孔；在该光反射层的表面上涂布高导光基材，以形成一导光基材膜；以及在该导光基材膜上设有多个聚光体，这些聚光体对应于该光反射层的光通孔。 【当前权利人】鑫佑光电科技股份有限公司; 东莞广明电子有限公司 【当前专利权人地址】中国台湾台北县; 广东省东莞市石排镇沙角管理区 【被引证次数】3 【被他引次数】3.0 【家族被引证次数】3
