【摘要】 ： 一种光电装置的制造方法，包括提供一基板；通过原子层沉积、 电子束蒸镀、溅镀、等离子增强化学气相沉积、常压化学气相沉积或 感应式耦合等离子增强化学气相沉积，在基板上形成一氮化物缓冲膜； 以及在氮化物缓冲膜上形成光电组件。 【专利类型】发明申请 【申请人】泰谷光电科技股份有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】中国台湾南投县南投市自强三路18号 【申请人地区】中国 【申请人城市】台湾省 【申请号】CN200810144456.X 【申请日】2008-07-31 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101640238A 【公开公告日】2010-02-03 【公开公告年份】2010 【发明人】富振华; 刘育泉; 王泰钧; 王冠儒 【主权项内容】1、一种光电装置的制造方法，包括： 提供一基板； 通过原子层沉积、电子束蒸镀、溅镀、等离子增强化学气相沉积、 常压化学气相沉积或感应式耦合等离子增强化学气相沉积，在该基板 上形成一氮化物缓冲膜；以及 在该氮化物缓冲膜上外延形成一光电组件。。 【当前权利人】泰谷光电科技股份有限公司 【当前专利权人地址】中国台湾南投县南投市自强三路18号 【被引证次数】TRUE 【家族被引证次数】TRUE
