【摘要】 本发明提出一种使用二维图建立电路布局图中限高区的方法。首先，提供二维图，其中二维图包含具有多个线段的几何封闭曲线，且几何封闭曲线内有文字串。接着，撷取文字串。从文字串的参考座标出发沿第一方向搜寻线段，并将所碰到第一条线段的点纪录为几何封闭曲线的搜寻起点。以顺时钟或逆时钟的方向，从搜寻起点始，沿几何封闭曲线搜寻并纪录所有转角点，直到回到搜寻起点。使用所有转角点的座标，于电路布局图中建立限高区，以及依据文字串，设定限高区的高度参数。 微信 【专利类型】发明申请 【申请人】英业达股份有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】中国台湾台北市士林区后港街66号 【申请人地区】中国 【申请人城市】台湾省 【申请号】CN200810181630.8 【申请日】2008-11-27 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101739481A 【公开公告日】2010-06-16 【公开公告年份】2010 【IPC分类号】G06F17/50 【发明人】郑永健 【主权项内容】一种使用二维图建立电路布局图中限高区的方法，包括：提供一二维图，其中该二维图包含具有多个线段的一几何封闭曲线，且该几何封闭曲线内有一文字串；撷取该文字串；从该文字串的参考座标出发沿一第一方向搜寻线段，并将所碰到第一条线段的点纪录为该几何封闭曲线的一搜寻起点；以顺时钟或逆时钟的方向，从该搜寻起点始，沿该几何封闭曲线搜寻并纪录所有转角点，直到回到该搜寻起点；使用前述转角点的座标，于一电路布局图中建立一限高区；以及依据该文字串，设定该限高区的高度参数。 【当前权利人】英业达股份有限公司 【当前专利权人地址】中国台湾台北市士林区后港街66号
