【摘要】 一种抗静电光学膜，包含：一个具有一第一阻抗值R1的基材及一设置在该基材的表面的抗静电层，该抗静电层具有一第二阻抗值R2，且R2＜1013Ω/mm2，R1/R2＜1010。通过抗静电层来提供光学膜抗静电功能，而且第二阻抗值R2要够小，才有利于静电的快速消失并提升抗静电效果，因此R2＜1013Ω/mm2。而R1与R2的差值不可过大，以避免静电电荷累积于高阻抗表面上，因此R1/R2＜1010。本发明通过控制抗静电层的R2值大小，以及R2、R1值差异，可以提供良好抗静电效果。 【专利类型】发明申请 【申请人】迎辉科技股份有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】中国台湾台南市 【申请人地区】中国 【申请人城市】台湾省 【申请号】CN200810177005.6 【申请日】2008-11-10 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101738646A 【公开公告日】2010-06-16 【公开公告年份】2010 【IPC分类号】G02B1/10; G02B5/04 【发明人】陈毓淞; 吴明旗; 赖品诚 【主权项内容】一种抗静电光学膜，包含：一个基材以及一层设置在该基材的表面的抗静电层，其特征在于，该基材具有一个第一阻抗值R1，该抗静电层具有一个第二阻抗值R2，且R2＜1013Ω/mm2，R1/R2＜1010。 【当前权利人】迎辉科技股份有限公司 【当前专利权人地址】中国台湾台南市 【引证次数】17.0 【他引次数】17.0 【家族引证次数】17.0
