【摘要】 本发明公开了一种离子注入机精确控制离子注入剂量的方法，离子注入机真空降低注入剂量计量新型补偿方法流程包括1、2、3、4四个步骤。步骤1，利用残余气体分析器分析离子注入机内的残余气体，取得残留在离子注入机内的残余气体的种类，并测量上述残余气体在离子注入机内的分压值；步骤2，依照上述步骤所分析到的残余气体种类，可以找出各残余气体的常数K，其中常数K表示该种残余气体与离子束产生电荷交换发应的能力；步骤3，测量真空降低情况下离子束电流值Ic；步骤4，根据测量离子束的电流值Ic及系数K1，K2，K3，根据下式计算得到离子束实际注入量Is：Is＝Ic×e(K1P1+K2P2+K3P3)这样采用理论补偿注入剂量方法可避免注入机为了增加真空抽速而增加真空泵及带来相关麻烦问题，使得离子注入机成本降低；同时，可根据实际情况灵活运用。 【专利类型】发明申请 【申请人】北京中科信电子装备有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】101111 北京市中关村科技园通州园光机电一体化产业基地兴光二街6号 【申请人地区】中国 【申请人城市】北京市 【申请人区县】通州区 【申请号】CN200810238902.3 【申请日】2008-12-04 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101764033A 【公开公告日】2010-06-30 【公开公告年份】2010 【IPC分类号】H01J37/317; H01J37/244 【发明人】戴习毛; 郭健辉; 金则军 【主权项内容】一种离子注入机真空降低注入剂量计量新型补偿方法流程包括1、2、3、4四个步骤：步骤1，利用残余气体分析器分析离子注入机内的残余气体，取得残留在离子注入机内的残余气体的种类，并测量上述残余气体在离子注入机内的分压值。步骤2，依照上述步骤所分析到的残余气体种类，可以找出各残余气体的常数K(例如第一残余气体的常数K1、第二残余气体的常数KZ以及第三残余气体的常数K3)，其中常数K表示该种残余气体与离子束产生电荷交换发应的能力。步骤3，测量真空降低情况下离子束电流值Ic，方法是利用离子注入内的测束FD筒来实现。步骤4，根据测量离子束的电流值Ic及系数K1，K2，K3，根据下式计算得到离子束实际注入量Is：Is＝Ic×e(K1P1+K2P2+K3P3)其特征在于：这样采用理论补偿注入剂量方法可避免注入机为了增加真空抽速而增加真空泵及带来相关麻烦问题，使得离子注入机成本降低；同时，可根据实际情况灵活运用。， 【当前权利人】北京中科信电子装备有限公司 【当前专利权人地址】北京市中关村科技园通州园光机电一体化产业基地兴光二街6号 【专利权人类型】有限责任公司(法人独资) 【统一社会信用代码】911101127513429762 【被引证次数】3 【被他引次数】3.0 【家族被引证次数】3
