【摘要】 本发明公开一种结合物理气相沉积及电着沉积的制作方法，其步骤包括提供一被镀物基材；在该被镀物基材的一表面以一物理气相沉积形成有一碳化层；在该碳化层表面再以另一物理气相沉积形成有一导电层；在该导电层表面以一电着沉积形成有一外表层；为此，可在被镀物基材上形成一复合式均匀镀膜。 【专利类型】发明申请 【申请人】及成企业股份有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】中国台湾台北县 【申请人地区】中国 【申请人城市】台湾省 【申请号】CN200810187341.9 【申请日】2008-12-26 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101760740A 【公开公告日】2010-06-30 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101760740B 【授权公告日】2012-07-25 【授权公告年份】2012.0 【IPC分类号】C23C28/00; C23C14/34; C25D13/00 【发明人】庄欣颖 【主权项内容】一种结合物理气相沉积及电着沉积的制作方法，其特征在于，步骤包括：a)提供一被镀物基材；b)在该被镀物基材的一表面以一物理气相沉积形成有一碳化层；c)在该碳化层表面再以另一物理气相沉积形成有一导电层；及d)在该导电层表面以一电着沉积形成有一外表层。 【当前权利人】及成企业股份有限公司 【当前专利权人地址】中国台湾台北县 【被引证次数】2 【被他引次数】2.0 【家族引证次数】2.0 【家族被引证次数】2
