【摘要】 本发明涉及黑光阻及其制备方法和构图方法。黑光阻包括：重量百分比为5％～45％的黑颜料、重量百分比为0.5％～67％的分散剂、重量百分比为0％～5％的助分散剂、重量百分比为0.05％～30％的分散树脂、重量百分比为0.05％～30％的碱可溶性树脂、重量百分比为2％～22％的乙烯性不饱和单体、重量百分比为0.05％～10％的环氧树脂、重量百分比为25％～80％的有机溶剂、重量百分比为0.15％～10％的光引发剂、和重量百分比为0.01％～2％的添加剂。本发明黑光阻粒度小，粒度分布范围窄，具有较高的存储稳定性；可满足滤光片黑矩阵的选材要求，有利于提高包括该滤光片黑矩阵显示产品的显示品质。 【专利类型】发明申请 【申请人】京东方科技集团股份有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】100016 北京市朝阳区酒仙桥路10号 【申请人地区】中国 【申请人城市】北京市 【申请人区县】朝阳区 【申请号】CN200810225982.9 【申请日】2008-11-07 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101738857A 【公开公告日】2010-06-16 【公开公告年份】2010 【IPC分类号】G03F7/004; G03F7/028; G03F7/00 【发明人】杨久霞; 赵吉生; 白峰 【主权项内容】一种黑光阻，其特征在于，包括：重量百分比为5％～45％的黑颜料、重量百分比为0.5％～67％的分散剂、重量百分比为0％～5％的助分散剂、重量百分比为0.05％～30％的分散树脂、重量百分比为0.05％～30％的碱可溶性树脂、重量百分比为2％～22％的乙烯性不饱和单体、重量百分比为0.05％～10％的环氧树脂、重量百分比为25％～80％的有机溶剂、重量百分比为0.15％～10％的光引发剂、和重量百分比为0.01％～2％的添加剂。。： 【当前权利人】京东方科技集团股份有限公司 【当前专利权人地址】北京市朝阳区酒仙桥路10号 【专利权人类型】其他股份有限公司(上市) 【统一社会信用代码】911100001011016602 【被引证次数】18 【被自引次数】7.0 【被他引次数】11.0 【家族被引证次数】18
