【摘要】 提供一种研磨垫及其制造方法，可以提供不同的研磨液流场分布。该研磨 垫包括研磨层以及多个弧状沟槽。弧状沟槽配置在研磨层中，且这些弧状沟槽 各具有两端点，其中至少一端点的沟槽底斜面与研磨层表面的夹角小于90度 角。 【专利类型】发明申请 【申请人】智胜科技股份有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】台湾省台中市工业区16路7号 【申请人地区】中国 【申请人城市】台湾省 【申请号】CN200810129624.8 【申请日】2008-08-01 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101637888A 【公开公告日】2010-02-03 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101637888B 【授权公告日】2013-09-18 【授权公告年份】2013.0 【发明人】王裕标 【主权项内容】1.一种研磨垫，包括： 一研磨层；以及 多个弧状沟槽，配置在该研磨层中，该些弧状沟槽各具有两端点，其中至 少一端点的沟槽底斜面与该研磨层表面的一夹角小于90度角。 【当前权利人】智胜科技股份有限公司 【当前专利权人地址】中国台湾台中市工业区16路7号 【被引证次数】TRUE 【家族被引证次数】TRUE
