【摘要】 一种多层涂布复合型光学膜结构，以具接口微结构的扩散层作为光扩散机制，包括透明基材、多层涂布及保护涂布层，该多层涂布内层的扩散层组合具有至少一个以上含接口微结构的扩散层，该多层涂布最表层的聚光层具有集旋光性微结构。藉此，利用多层涂布技术对光源的扩散及聚光效果做复合式的设计，藉整合于单一光学膜片可有效降低材料成本，并在具接口微结构的扩散层作为光扩散机制下，不仅可有效地提升辉度表现，同时亦可减少因掺杂粒子的分散及膜材翘曲等所致的品质变因，进而可在简化背光模块的组装以提高其组装效率的同时，亦提升此复合型光学膜的膜材质量与光学特性。 【专利类型】发明申请 【申请人】国硕科技工业股份有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】中国台湾新竹工业区工业一路三号 【申请人地区】中国 【申请人城市】台湾省 【申请号】CN200810305478.X 【申请日】2008-11-11 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101738649A 【公开公告日】2010-06-16 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101738649B 【授权公告日】2012-03-21 【授权公告年份】2012.0 【IPC分类号】G02B1/10; B32B7/02; B32B27/06; G02B5/02 【发明人】杨盛如; 陈华杰; 苏钊立; 黄柏昭 【主权项内容】一种多层涂布复合型光学膜结构，其特征在于：以具散乱型接口微结构的扩散层作为光扩散机制，包括透明基材、多层涂布及保护涂布层，其中：该透明基材，具有两相对面，且其厚度介于30μm至300μm之间；该多层涂布内层具有扩散层组合，该扩散层组合位于该透明基材两相对面其中的一面上，且该扩散层组合具有至少一个以上含接口微结构的扩散层所组成，该些扩散层的涂布厚度介于1μm至50μm之间，且以单一扩散层其接口微结构的粗糙度值大于0.5μm以上，其中该扩散层组合为用以将入射的光线作散射化处理的接口微结构；该多层涂布最表层具有聚光层，该聚光层位于该扩散层组合上，且该扩散层组合位于该聚光层与该透明基材之间，其中该聚光层为用以将散射的光线作集中化处理的集旋光性微结构；该保护涂布层，位于该透明基材的另一相对面，用以提供整体结构的抗静电及抗磨损；其中，该扩散层组合的折射率介于1.3至1.6之间，该聚光层的折射率介于1.4至1.7之间。 【当前权利人】国硕科技工业股份有限公司 【当前专利权人地址】中国台湾新竹县新竹工业区工业一路三号 【引证次数】1.0 【被引证次数】21 【他引次数】1.0 【被他引次数】21.0 【家族引证次数】5.0 【家族被引证次数】21
