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发光二极管阵列、具有其的背光模块和液晶显示装置专利

发布时间:2026-06-19

【摘要】 本发明公开了一种发光二极管阵列、具有其的背光模块和液晶显示装 置。此发光二极管阵列至少划分有第一区域以及第二区域,且此发光二极管 阵列至少包括:多个第一发光二极管裸芯,设于第一区域中,其中这些第一 发光二极管裸芯属于第一规格范围;以及多个第二发光二极管裸芯,设于第 二区域中,其中这些第二发光二极管裸芯属于一第二规格范围,且第一规格 范围与第二规格范围的光学规格不同。根据本发明,大大地提高同一批晶片 上的发光二极管裸芯的使用率。 【专利类型】发明申请 【申请人】奇美电子股份有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】中国台湾台南县 【申请人地区】中国 【申请人城市】台湾省 【申请号】CN200810214881.1 【申请日】2008-09-03 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101666429A 【公开公告日】2010-03-10 【公开公告年份】2010 【IPC分类号】F21S2/00; F21V19/00; F21V23/00; G02F1/13357; F21Y101/02; F21K9/00; F21Y115/10 【发明人】白维铭 【主权项内容】1.一种发光二极管阵列,至少划分有一第一区域以及一第二区域,且该 发光二极管阵列至少包括: 多个第一发光二极管裸芯,设于该第一区域中,其中该些第一发光二极 管裸芯属于一第一规格范围;以及 多个第二发光二极管裸芯,设于该第二区域中,其中该些第二发光二极 管裸芯属于一第二规格范围,且该第一规格范围与该第二规格范围的光学规 格不同。。 【当前权利人】奇美电子股份有限公司 【当前专利权人地址】中国台湾台南县 【被引证次数】4 【被他引次数】4.0 【家族被引证次数】4

  • 【摘要】本发明提供一种氨气感测材料,其包括:一载体,包括硅酸盐中孔洞 材料,其比表面积大于700m2g;以及一染剂,包括氨气感测变色染剂, 其中该氨气感测变色染剂嵌入载体中,当该氨气感测材料曝露于氨气环境 时,该氨气感测变色染剂产生颜色变化
  • 【摘要】本发明提供一种散热片、包括该散热片的散热模块及该散热模块的组装 方法。根据本发明的散热片可与一导热管以及一接合材料结合成散热模块。 该散热片包括一本体,具有一通孔与一注入孔,该通孔供该导热管穿过,该 注入孔与该通孔连通,该接合材料自
  • 【摘要】本发明是一种半导体封装结构,其包含:基板,具有正面及背面,且具有开口 穿透过基板;第一芯片,具有主动面及背面,主动面朝上通过第一黏着层覆盖在开 口,并通过第一黏着层贴附在基板的背面上;第一导线,通过开口电性连接第一芯 片及基板的正面
  • 【摘要】本发明关于一种多功能训练器材,包括一架体;一阻力产生单元;一缆绳滑 轮机构,具有至少一拉引端;多个操作组件,分别能连接缆绳滑轮机构的拉引端; 其特征在于还包括:一旋转组件,大致以垂直轴向枢设于架体,其中,旋转组件 的垂直轴向界定出一
  • 【摘要】本发明提供一种脚架组合及电子装置。该脚架组合用以支撑电子装置。脚 架组合包含主支架构件以及辅助支架构件。主支架构件包含第一支架以及第二 支架。第一支架具有第一轴与第二轴,上述第一轴枢接于上述电子装置;第二 支架的一端枢接于上述第二轴
  • 【摘要】本发明提供一种薄膜移除设备及移除薄膜的方法,其中薄膜移除设备包 括:研磨头、超声波震荡装置以及微粒移除装置。超声波震荡装置用来驱动研 磨头,以去除位于基材上的薄膜。微粒移除装置用来移除由该薄膜所产生的多 个微粒。【专利类型】发明申请