【摘要】 本发明披露一种高效率发光装置及其形成方法。此方法包含提供发光二 极管结构；以蒸镀方式将分布式布拉格反射层附加至发光二极管上；以及通 过分布式布拉格反射层将发光二极管结构粘贴至共晶层，以形成此高效率发 光装置。 【专利类型】发明申请 【申请人】广镓光电股份有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】中国台湾台中市 【申请人地区】中国 【申请人城市】台湾省 【申请号】CN200810137729.8 【申请日】2008-07-18 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101630708A 【公开公告日】2010-01-20 【公开公告年份】2010 【发明人】王伟凯; 林素慧; 施文忠 【主权项内容】1.一种形成高效率发光装置的方法，包含： 提供发光二极管结构； 以蒸镀方式将分布式布拉格反射层附加至该发光二极管结构上；以及 通过该分布式布拉格反射层将该发光二极管结构连结至共晶层，以形成 该高效率发光装置。 【当前权利人】广镓光电股份有限公司 【当前专利权人地址】中国台湾台中市 【被引证次数】4 【被自引次数】1.0 【家族被引证次数】4
