【摘要】 一种利用电流解离杂质的洗净装置，包含一清洗座、两导电件，及一供电单元。该清洗座包括一底壁，及一自该底壁周缘向上延伸的围绕壁，该底壁与围绕壁界定出一可容置清洁剂的清洗槽。所述导电件分离设置于该清洗座上且在该清洗槽上显露。该供电单元设置于该清洗座中且与所述导电件电连接以提供电能，利用清洁剂和一待洗净物上的杂质作用而生成化合物，配合该供电单元自所述导电件通电释放出电子与该化合物结合成为安定物质，加速待洗净物上的杂质和清洁剂的反应速率，使得待洗净物可以清洁的更为完全，而且通电时并不会损坏待洗净物。 【专利类型】发明申请 【申请人】林锦鸿 【申请人类型】个人 【申请人地址】中国台湾台东县 【申请人地区】中国 【申请人城市】台湾省 【申请号】CN200810176759.X 【申请日】2008-11-20 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101738746A 【公开公告日】2010-06-16 【公开公告年份】2010 【IPC分类号】G02C13/00; B08B3/08; B08B3/10 【发明人】林锦鸿 【主权项内容】一种利用电流解离杂质的洗净装置，可容置一清洁剂来清洁附着于待洗净物上的杂质，所述利用电流解离杂质的洗净装置包含：一个由绝缘材料制成的清洗座，所述清洗座包括一个底壁，及一个自所述底壁周缘向上延伸的围绕壁，所述底壁与围绕壁界定出一个可容置所述清洁剂的清洗槽，其特征在于：所述洗净装置还包含两个分离设置于所述清洗座中且在所述清洗槽上显露的导电件，及一个设置于所述清洗座中且与所述导电件电连接以提供电能的供电单元。 【当前权利人】林锦鸿 【当前专利权人地址】中国台湾台东县
