【摘要】 一种铜核层多层封装基板的制作方法，系以一铜核基板为基础，开始制作单面、多层封装基板。其结构包括一具高刚性支撑的铜板，且此铜板的一面具增层线路，另一面则不具任何球侧图案。其各增层线路及置晶侧与球侧连接方式是以多个电镀盲、埋孔所导通。本发明封装基板的特色在于，具有高密度增层线路以提供电子组件相连时所需的绕线，同时并以该铜板提供足够刚性使封装制程可更为简易。藉此，使用本发明所制造的多层封装基板，可依实际需求形成具该铜核基板支撑的铜核层多层封装基板，并可有效达到改善超薄核层基板板弯翘问题、及简化传统增层线路板制作流程，进而提高封装体接合基板时的可靠度。 ： 【专利类型】发明授权 【申请人】钰桥半导体股份有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】中国台湾台北市松山区延寿街10号1楼 【申请人地区】中国 【申请人城市】台湾省 【申请号】CN200810305198.9 【申请日】2008-10-27 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101436549B 【公开公告日】2010-06-02 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101436549B 【授权公告日】2010-06-02 【授权公告年份】2010.0 【IPC分类号】H01L21/48; H05K3/46 【发明人】林文强; 王家忠; 陈振重 【主权项内容】一种铜核层多层封装基板的制作方法，其特征在于至少包含下列步骤：(A)提供一铜核基板；(B)于该铜核基板的第一面上形成一第一介电层及一第一金属层；(C)于该第一金属层及该第一介电层上形成多个第一开口，并显露部分铜核基板第一面；(D)于多个第一开口中及该第一金属层上形成一第二金属层；(E)分别于该第二金属层上形成一第一阻层，以及于该铜核基板的第二面上形成一完全覆盖状的第二阻层，该第一阻层上形成多个第二开口，系显露部分第二金属层；(F)移除该第二开口下方的第二金属层及第一金属层，并形成一第一线路层；(G)移除该第一阻层及该第二阻层，完成一具有铜核基板支撑并具电性连接的单层增层线路基板；(H)于该单层增层线路基板上进行一置晶侧与球侧线路层制作：在该第一线路层表面形成一第一防焊层，并且在该第一防焊层上形成多个第三开口，以显露该第一线路层作为电性连接垫的部分；接着于该铜核基板的第二面上形成一第三阻层，并于多个第三开口中形成一第一阻障层；最后再移除该第三阻层，完成一具有完整图案化的置晶侧线路层与已图案化但仍完全电性短路的球侧线路层；以及(I)于该单层增层线路基板上进行一线路增层结构制作：在该第一线路层及该第一介电层表面形成一第二介电层，并且在该第二介电层上形成多个第四开口，以显露部分第一线路层；接着于该第二介电层与多个第四开口表面形成一第一晶种层，再分别于该第一晶种层上形成一第四阻层，以及于该铜核基板的第二面上形成一完全覆盖状的第五阻层，并于该第四阻层上形成多个第五开口，以显露部分第一晶种层，之后于该第五开口中已显露的第一晶种层上形成一第三金属层；最后移除该第四阻层、该第五阻层及该第一晶种层，以在该第二介电层上形成一第二线路层，完成一具有铜核基板支撑并具电性连接的双层增层线路基板；并继续本步骤(I)增加线路增层结构，形成具更多层的封装基板。 【当前权利人】钰桥半导体股份有限公司 【当前专利权人地址】中国台湾台北市松山区延寿街10号1楼 【引证次数】3.0 【他引次数】3.0 【家族引证次数】17.0 【家族被引证次数】71
