【摘要】 本发明是一种二氧化钛薄膜的制备方法，包括：首先，提供一真空腔体，此真空腔体中具有二氧化钛靶材与晶座，其中晶座上放置有塑料基材。接着，填充1～10Pa的等离子体气体到真空腔体，此等离子体气体是由氩气与氧气所组成。前述氩气与氧气的流量比为9∶1～7∶1。最后，再利用溅镀法形成锐钛矿晶相的二氧化钛层于塑料基材上，其中在该溅镀过程中该塑料基材温度维持在50～180℃。 【专利类型】发明申请 【申请人】财团法人纺织产业综合研究所 【申请人类型】科研单位 【申请人地址】中国台湾台北县土城市承天路6号 【申请人地区】中国 【申请人城市】台湾省 【申请号】CN200810174897.4 【申请日】2008-11-11 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101736295A 【公开公告日】2010-06-16 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101736295B 【授权公告日】2012-10-10 【授权公告年份】2012.0 【IPC分类号】C23C14/34; C23C14/08 【发明人】胡瑞楷; 陈宏昌; 林文婷 【主权项内容】一种二氧化钛薄膜的制备方法，至少包含：提供一真空腔体，该真空腔体中具有二氧化钛靶材与一晶座，其中该晶座上放置有一塑料基材；填充1～10Pa的一等离子体气体到该真空腔体，该等离子体气体是由氩气与氧气所组成，其中该氩气与该氧气的流量比为9∶1至7∶1；以及利用溅镀法形成锐钛矿晶相的二氧化钛层于该塑料基材上，其中在该溅镀过程中将该塑料基材温度维持在50～180℃。 【当前权利人】财团法人纺织产业综合研究所 【当前专利权人地址】中国台湾台北县土城市承天路6号 【被引证次数】2 【被他引次数】2.0 【家族被引证次数】2
