【摘要】 一种高架地板结构，其与一支撑单元配合应用。此高架地板结构包含一基底层、一平板层、一高程调整单元以及一结构补强单元。其中，支撑单元固定于基底层；平板层具有至少一开孔以供支撑单元穿过平板层；高程调整单元设置于基底层与平板层之间；结构补强单元则用以连结平板层与支撑单元 【专利类型】发明授权 【申请人】友达光电股份有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】中国台湾 【申请人地区】中国 【申请人城市】台湾省 【申请号】CN200810186676.9 【申请日】2008-12-16 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101435262B 【公开公告日】2010-08-25 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101435262B 【授权公告日】2010-08-25 【授权公告年份】2010.0 【IPC分类号】E04F15/02 【发明人】林光亮; 戴维修; 林志宏 【主权项内容】一种高架地板结构，与一支撑单元配合应用，其特征在于，该高架地板结构包含：一基底层，连接该支撑单元用以固定该支撑单元；一平板层，平行于该基底层，具有至少一开孔以供该支撑单元穿过该平板层；一高程调整单元，设置于该基底层与该平板层之间；一结构补强单元，连结该平板层与该支撑单元；一固定单元，设置于该支撑单元与该基底层之间，以固定该支撑单元；以及一辅助补强单元，连结该固定单元与该结构补强单元，或者，连结该基底层与该结构补强单元。 【当前权利人】友达光电股份有限公司 【当前专利权人地址】中国台湾 【引证次数】6.0 【他引次数】6.0 【家族引证次数】6.0
