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抗污衬衫专利

发布时间:2026-06-15

【摘要】 本发明公开了一种抗污衬衫,包括衬衫主体、领子和袖子,所述领子和袖子的袖口采用抗污面料制成,其他部位采用普通面料制成。本发明的抗污衬衫具有成本低的特点。 【专利类型】发明申请 【申请人】北京大华天坛服装有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】100086 北京市海淀区中关村大街人民大学南路三义庙大华天坛大厦七层 【申请人地区】中国 【申请人城市】北京市 【申请人区县】海淀区 【申请号】CN200810238903.8 【申请日】2008-12-04 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101744369A 【公开公告日】2010-06-23 【公开公告年份】2010 【IPC分类号】A41B1/00 【发明人】谢拥军; 吕建 【主权项内容】抗污衬衫,包括衬衫主体、领子和袖子,其特征为:所述领子和袖子的袖口采用抗污面料制成,其他部位采用普通面料制成。 【当前权利人】北京大华天坛服装有限公司 【当前专利权人地址】北京市海淀区中关村大街人民大学南路三义庙大华天坛大厦七层 【专利权人类型】其他有限责任公司 【统一社会信用代码】91110108726340696L 【被引证次数】2 【被他引次数】2.0 【家族被引证次数】2

  • 【摘要】本发明公开了一种具有良好水分散性的氧化铜纳米粒子,是在氧化铜纳米粒子的表面包覆有1~10nm厚的亲水聚合物材料;所述亲水聚合物材料是低聚丙烯酸、低聚丙烯酸钠、低聚丙烯酸钾、低聚丙烯酸钙、低聚丙烯酸锌、低聚乙二醇或者低聚醋酸乙烯之一。
  • 【摘要】本发明公开一种动态频谱分配的方法和系统,包括:进行频谱监测,对每个频段的稳定性进行预测;用户业务数据流到达网络端后,获取对每个频段稳定性的预测结果,根据在业务传输质量中所起的作用大小分配到不同的频段,其中在业务传输质量中所起作用大的
  • 【摘要】一种取样光栅分布布拉格反射半导体激光器的制作方法,包括:在n 型InP衬底上分别外延InP缓冲层和介质膜;在介质膜上刻出条形凹槽, 并依次生长InGaAsP下限制层、InGaAsPInGaAsP多量子阱、InGaAsP上 限制层和I
  • 【摘要】本发明公开了一种可调节屏幕呈现元素的计算机,包括:显示屏;测距模块,用于获取与用户和显示屏之间距离相关的第一距离信息;调节处理模块,用于接收并处理第一距离信息获得第一距离参数,根据预设的距离参数与屏幕呈现参数之间的对应关系,获得与第
  • 【摘要】本发明涉及密封设备领域,特别涉及一种用于超高压容器的密封装置。堵头与超高压容器筒体通过螺纹连接在一起,堵头靠近超高压容器筒体内部一侧的末端处为斜面,该斜面与密封装置的三角垫圈吻合,实现一重密封;堵头的末端为柱体,通过螺纹旋转使得堵头
  • 【摘要】一种电炉包括:炉体和设置在炉体上方的电极装置,所述电极装置具有电极本体,所述电极本体伸入炉体且沿上下方向可移动;抱紧和松开电极本体的上抱闸;抱紧和松开所述电极本体的下抱闸,所述下抱闸位于上抱闸下方;升降机构,其中所述下抱闸安装在所述