【摘要】 本发明公开了一种多气氛及真空环境下测量材料摩擦行为的装置，包括基座、驱动装置、样品夹持机构、压头控制机构、密封罩，基座上设有密封罩将样品夹持机构和压头控制机构密封，样品夹持机构包括样品台、样品压盖和垂直回转轴，样品夹持在样品台和样品压盖之间，样品台通过垂直回转轴与基座相连，驱动装置与垂直回转轴动力相连，并驱动样品夹持机构以垂直方向轴线旋转，压头控制机构控制压头的工作位置和压头的工作压力，并通过数据采集装置将采集到的数据传输给计算系统。本发明真空环境下测量材料摩擦行为的装置，根据实验需要可以实现多种环境下摩擦系数等参数的实时数据采集，并且装置结构简单、使用方便。 【专利类型】发明授权 【申请人】中国科学院力学研究所 【申请人类型】科研单位 【申请人地址】100190 北京市海淀区北四环西路15号 【申请人地区】中国 【申请人城市】北京市 【申请人区县】海淀区 【申请号】CN200810225546.1 【申请日】2008-11-05 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101393113B 【公开公告日】2010-10-13 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101393113B 【授权公告日】2010-10-13 【授权公告年份】2010.0 【IPC分类号】G01N19/02; G01N3/56 【发明人】李光; 夏原; 徐方涛; 陈支通 【主权项内容】真空环境下测量材料摩擦行为的装置，其特征在于，包括基座、驱动装置、样品夹持机构、压头控制机构和密封罩，基座上设有密封罩将样品夹持机构和压头控制机构密封，样品夹持机构包括样品台、样品压盖和垂直回转轴，样品压盖将样品压固在样品台上，样品台通过垂直回转轴与基座相连，驱动装置与垂直回转轴动力相连，并通过垂直回转轴带动样品台旋转；压头控制机构包括横梁、横梁支架、滑动导轨、导轨底座和滑轮支架，导轨底座设置在基座上并在导轨底座之间设置一与基座面相平行的滑动导轨，横梁支架可滑动设置在滑动导轨上，并在横梁支架上设置有一可在垂直方向摆动的横梁，横梁与滑动导轨相平行，横梁一端设置摩擦压头，该摩擦压头与横梁另一端设置的配重共同作用使所述摩擦压头压持在样品夹持机构位置，横梁上还设置有数据采集装置，数据采集装置用于将采集到的数据传输给计算系统；导轨底座上还设置有滑轮支架，其上固定一滑轮，所述配重跨过该滑轮沿竖直方向吊起，滑轮支架下方的基座上设置有一通孔，该通孔与一真空泵相连。 【当前权利人】中国科学院力学研究所 【当前专利权人地址】北京市海淀区北四环西路15号 【统一社会信用代码】1210000040001222XA 【引证次数】3.0 【被引证次数】1 【他引次数】3.0 【被他引次数】1.0 【家族引证次数】3.0 【家族被引证次数】28
