【摘要】 本发明公开了一种本底硅的测量方法，其步骤包括：进行零点值测量，用倒加药得显色溶液，零点值的显色溶液的硅浓度为0，电压值V0；配制两种不同浓度的标准溶液，即标液1、标液2，溶液浓度分别为C1、C2；标液1、标液2分别作显色操作，再根据光电比色原理进行测量，并分别测量电压值V1、V2；经过计算，得出本底硅的浓度为X。用于测量的仪器为光度计，显色溶液中二氧化硅浓度越高，所测得的电压值越低。用此方法能够较精准地测量出无硅水中本底硅的浓度，精确了已知浓度二氧化硅的标准溶液的实际浓度，在二氧化硅浓度分析中对二氧化硅含量测得的结果更为精确；且本方法操作简单，精确度高。 【专利类型】发明授权 【申请人】北京华科仪电力仪表研究所 【申请人类型】科研单位 【申请人地址】100085 北京市海淀区上地信息路2号国际创业园2号楼2E 【申请人地区】中国 【申请人城市】北京市 【申请人区县】海淀区 【申请号】CN200810115658.1 【申请日】2008-06-26 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101403700B 【公开公告日】2010-12-01 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101403700B 【授权公告日】2010-12-01 【授权公告年份】2010.0 【IPC分类号】G01N21/78; G01N21/27 【发明人】陈云龙 【主权项内容】 。一种本底硅的测量方法，其特征在于，包括有下列步骤：a、进行零点值测量，即：取适量的待测无硅水，用倒加药的方式处理，得到所述零点值的显色溶液，该零点值的显色溶液的硅浓度为0，再用光度计对所述零点值的显色溶液进行测量，得到数据：输出电压值为V0；b、取步骤a中同样的无硅水，用同一种母液分别配置两种不同浓度的标准溶液，即标液1、标液2；浓度分别为C1、C2；c、将标液1及标液2分别作显色操作处理，得到所述标准溶液的显色溶液再用所述光度计对所述两种标准溶液的显色溶液进行测量，得到的电压分别为V1、V2；d、根据光电比色原理，利用测得的数据及公式 计算出所述待测无硅水中本底硅的浓度为X；所述标准溶液的显色操作过程需要14至17分钟的时间，所述标准溶液的显色操作步骤包括：c1、取待测标准溶液；c2、加入酸性钼酸铵溶液，摇匀等候5至6分钟；c3、加入草酸，摇匀等候1至2分钟；c4、加入酸还原剂，摇匀等候8至9分钟；c5、形成显色溶液。re-FSB00000204318700011.tif 【当前权利人】北京华科仪科技股份有限公司 【当前专利权人地址】北京市大兴区西红门镇金业大街10号
