【摘要】 本发明公开了并六噻吩及其衍生物以及它们的制备方法与应用。并六噻吩衍生物,结构式如式(I)所示,其中,R为H、烷基或芳基。本发明还提供了式(I)化合物的制备方法。本发明的合成路线简单、有效;以本发明的并六噻吩为有机半导体层制备的OFET的迁移率和开关比都很高(μ最高为0.06cm2/V·s,开关比为105),在OFET中有良好的应用前景。 式(I) 【专利类型】发明授权 【申请人】中国科学院化学研究所 【申请人类型】科研单位 【申请人地址】100080 北京市海淀区中关村北一街2号 【申请人地区】中国 【申请人城市】北京市 【申请人区县】海淀区 【申请号】CN200810222217.1 【申请日】2008-09-11 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101353352B 【公开公告日】2010-12-01 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101353352B 【授权公告日】2010-12-01 【授权公告年份】2010.0 【IPC分类号】C07D495/22; H01L51/30; H01L51/00 【发明人】刘云圻; 刘颖; 孙向南; 狄重安; 于贵 【主权项内容】一种制备式(I)所示化合物的方法,包括以下步骤:1)将3,6‑二溴并二噻吩的无水乙醚溶液冷却至‑10~‑20℃,加入正丁基锂的正己烷溶液,反应1~1.5h,形成混合体系a;2)在‑10~‑20℃下,将化合物II的无水乙醚溶液加入所述混合体系a中,反应1‑1.5h,然后在室温反应12~15h,得到化合物III;3)制备化合物III的无水乙醚溶液,冷却至0~‑10℃,加入正丁基锂的正己烷溶液,反应2~3h,然后在室温反应2~5h,得到有白色沉淀生成的溶液b;4)将无水氯化铜的无水乙醚溶液冷却至0~‑10℃,得到棕色溶液c,将所述溶液b加入所述溶液c中,进行氧化耦合反应,得到式(I)所示的化合物;其中,式(I)所示的化合物、化合物II、化合物III的结构式如下:式(I)化合物II 化合物III其中,R为H。re-FSB00000241121900011.tif, re-FSB00000241121900012.tif 【当前权利人】中国科学院化学研究所 【当前专利权人地址】北京市海淀区中关村北一街2号 【统一社会信用代码】12100000400012238A 【被引证次数】1 【被自引次数】1.0 【家族被引证次数】4