【摘要】 本发明公开了一种全环光子筛，该全环光子筛包括：光子筛，该光子 筛制作在透明介质上，其衍射孔径与相应菲涅耳环带宽度相等；刻蚀圆孔， 该刻蚀圆孔位于其余的菲涅耳环带处；该刻蚀圆孔数量和位置的决定规律 与光子筛圆环相同，从原来的偶数环增加到奇数环，或者从原来的奇数环 增加到偶数环，在波带片的奇数环带和偶数环带都有透光部分，分别是奇 数环带的透光孔和偶数环带的刻蚀位相透光孔，每个透光孔的直径和相应 的环带宽度相同，且该刻蚀圆孔与原来的衍射孔构成位相板。本发明同时 公开了一种制作全环光子筛的方法。利用本发明，实现了光子筛聚焦衍射 光强的提高，即实现了激光束远场衍射斑的主斑能量的提升。。数据由整理 【专利类型】发明申请 【申请人】中国科学院微电子研究所 【申请人类型】科研单位 【申请人地址】100029北京市朝阳区北土城西路3号 【申请人地区】中国 【申请人城市】北京市 【申请人区县】朝阳区 【申请号】CN200810222330.X 【申请日】2008-09-17 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101676750A 【公开公告日】2010-03-24 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101676750B 【授权公告日】2011-10-05 【授权公告年份】2011.0 【IPC分类号】G02B5/18; G02B5/00; G03F7/20; G03F7/00; G03F7/36 【发明人】贾佳; 谢长青; 刘明 【主权项内容】1、一种全环光子筛，其特征在于，该全环光子筛包括： 光子筛，该光子筛制作在透明介质上，其衍射孔径与相应菲涅耳环带 宽度相等； 刻蚀圆孔，该刻蚀圆孔位于其余的菲涅耳环带处； 该刻蚀圆孔数量和位置的决定规律与光子筛圆环相同，从原来的偶数 环增加到奇数环，或者从原来的奇数环增加到偶数环，在波带片的奇数环 带和偶数环带都有透光部分，分别是奇数环带的透光孔和偶数环带的刻蚀 位相透光孔，每个透光孔的直径和相应的环带宽度相同，且该刻蚀圆孔与 原来的衍射孔构成位相板。 【当前权利人】中国科学院微电子研究所 【当前专利权人地址】北京市朝阳区北土城西路3号 【统一社会信用代码】12100000400834434U 【被引证次数】3 【被自引次数】3.0 【家族被引证次数】3
