【摘要】 本发明公开了一种工艺腔室及等离子体装置及腔室状态检测方法，工艺腔室的侧壁上的工艺元件可以移除，工艺元件与腔室的侧壁的接口处可以安装摄像头。当腔室进行正常工艺时，腔室的侧壁上装有工艺元件；当腔室进行调试时，将工艺元件移除，并在工艺元件与腔室的侧壁的接口处安装摄像头，通过摄像头对腔室内的状态进行检测，不必另外在腔室的侧壁上开设额外的检测接口，减少了侧壁上的开口对工艺的影响，结构简单、操作方便、腔室均一性好。 【专利类型】发明申请 【申请人】北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】100016 北京市朝阳区酒仙桥东路1号M5座2楼 【申请人地区】中国 【申请人城市】北京市 【申请人区县】朝阳区 【申请号】CN200810223919.1 【申请日】2008-10-09 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101719462A 【公开公告日】2010-06-02 【公开公告年份】2010 【IPC分类号】H01L21/00; H01J37/32; H01J37/244 【发明人】刘利坚 【主权项内容】一种工艺腔室，所述腔室的侧壁上设有用于安装工艺元件的接口，其特征在于，所述接口还用于安装摄像头。 【当前权利人】北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 【当前专利权人地址】北京市朝阳区酒仙桥东路1号M5座2楼 【专利权人类型】有限责任公司 【统一社会信用代码】91110302801786752A 【被引证次数】2 【被自引次数】1.0 【被他引次数】1.0 【家族被引证次数】2
