【摘要】 本发明公开了一种气体分配装置，其包括从上至下依次层叠设置的支撑板、阻流板和喷淋头电极。所述支撑板上设置有进气通道，喷淋头电极上开设有排气通道。其中，该阻流板的至少一个表面上设置有阻流板内凹部分，且该阻流板内凹部分设置有纵向贯通该阻流板的通孔，以使该支撑板进气通道的气体在该阻流板内凹部分进行扩散后，再经由该通孔而输送至喷淋头电极，并通过该喷淋头电极上的排气通道输送至反应腔室。此外，本发明还公开一种应用上述气体分配装置的半导体处理设备。本发明提供的气体分配装置和半导体处理设备能够将诸如工艺气体等的气体较为均匀地分配到反应腔室内，从而获得较为均匀的等离子体分布，进而获得较为均匀的加工/处理结果。。 【专利类型】发明授权 【申请人】北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】100016 北京市朝阳区酒仙桥东路1号M5楼南二层 【申请人地区】中国 【申请人城市】北京市 【申请人区县】朝阳区 【申请号】CN200810057524.9 【申请日】2008-02-02 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101499407B 【公开公告日】2010-07-28 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101499407B 【授权公告日】2010-07-28 【授权公告年份】2010.0 【IPC分类号】H01L21/00; H01L21/3065; C23F4/00; C23C16/455; C30B25/14; H01J37/32 【发明人】徐亚伟 【主权项内容】一种气体分配装置，用于将气体均匀地分配至反应腔室内，其包括从上至下依次层叠设置的支撑板、阻流板和喷淋头电极，所述支撑板上设置有进气通道，用于将气体引入到所述气体分配装置内；所述喷淋头电极上开设有排气通道，其特征在于，所述阻流板的至少一个表面上设置有阻流板内凹部分，且所述阻流板内凹部分设置有纵向贯通所述阻流板的通孔，以使所述支撑板进气通道的气体在所述阻流板内凹部分进行扩散后，再经由所述通孔而输送至喷淋头电极，并通过所述喷淋头电极上的排气通道输送至反应腔室。 【当前权利人】北京北方华创微电子装备有限公司 【当前专利权人地址】北京市大兴区经济技术开发区文昌大道8号 【专利权人类型】有限责任公司 【统一社会信用代码】91110302801786752A 【引证次数】4.0 【被引证次数】1 【他引次数】4.0 【被他引次数】1.0 【家族引证次数】4.0 【家族被引证次数】30
