【摘要】 本发明公开了一种气体分配装置，用于等离子体处理设备，包括支撑板以及与其相平行喷头电极，两者之间的空间中水平地设置第一气体分配板；所述第一气体分配板的顶面设有至少一条环绕其中心位置的第一周向通气槽，以及多条与所述第一周向通气槽相连通的第一径向通气槽；所述第一周向通气槽以及所述第一径向通气槽之中设有第一轴向通孔。工艺气体可以沿所述第一径向通气槽迅速横向扩散，从而实现工艺气体在径向均匀分布；工艺气体还可以由所述第一径向通气槽进入所述第一周向通气槽，从而实现工艺气体在周向的均匀分布。因此，本发明所提供的气体分配装置通过简单的结构即可保证工艺气体在反应腔室具有较高的均匀度。 【专利类型】发明授权 【申请人】北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】100016 北京市朝阳区酒仙桥东路1号M5楼北方微电子 【申请人地区】中国 【申请人城市】北京市 【申请人区县】朝阳区 【申请号】CN200810056179.7 【申请日】2008-01-14 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101488446B 【公开公告日】2010-09-01 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101488446B 【授权公告日】2010-09-01 【授权公告年份】2010.0 【IPC分类号】H01L21/00; H05H1/24; H01J37/32 【发明人】姚立强 【主权项内容】一种气体分配装置，用于等离子体处理设备，包括固定连接于所述等离子体处理设备上电极且水平设置的支撑板(3)，其中心部位具有第一进气通道(31)；所述支撑板(3)的下方固定连接与其相平行喷头电极(5)，两者之间的空间中水平地设置具有多个第一轴向通孔(43)的第一气体分配板(4)；所述第一气体分配板(4)的中心部位与所述支撑板(3)的中心部位相对应；其特征在于，所述第一气体分配板(4)的顶面设有至少一条环绕其中心位置的第一周向通气槽(41)，以及多条与所述第一周向通气槽(41)相连通的第一径向通气槽(42)；所述第一轴向通孔(43)设置于所述第一周向通气槽(41)以及所述第一径向通气槽(42)之中。 【当前权利人】北京北方华创微电子装备有限公司 【当前专利权人地址】北京市大兴区经济技术开发区文昌大道8号 【专利权人类型】有限责任公司 【统一社会信用代码】91110302801786752A 【引证次数】5.0 【被引证次数】1 【他引次数】5.0 【被他引次数】1.0 【家族引证次数】33.0 【家族被引证次数】42
