【摘要】 本发明公开一种照明系统，具有多个照明单元、一投射调整模块以及一聚焦调整模块。投射调整模块改变该多个照明单元的光线的投射形状，而聚焦调整模块则改变该多个照明单元的聚焦位置。由此可以改变光线的投射形状以及聚焦位置。 【专利类型】发明申请 【申请人】财团法人工业技术研究院 【申请人类型】科研单位 【申请人地址】中国台湾新竹县 【申请人地区】中国 【申请人城市】台湾省 【申请号】CN200810171061.9 【申请日】2008-11-06 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101737729A 【公开公告日】2010-06-16 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101737729B 【授权公告日】2012-01-04 【授权公告年份】2012.0 【IPC分类号】F21V14/02; F21V7/04; F21V21/30; F21Y113/00; F21W131/205; F21V14/00; F21V7/00; F21V21/14 【发明人】姜雅惠; 萧正达; 胡鸿烈; 杜冠洁 【主权项内容】一种照明系统，包括：第一照明模块，包括多个第一照明单元，以一轴线为中心而相对地配置，每个第一照明单元包括至少一第一光源以及至少一第一反射罩及一第三反射罩，该第一光源的光线由该第一反射罩或/与该第三反射罩反射后产生一投射形状，该多个第一照明单元的光线汇聚于一第一焦点，该第一焦点位于该轴线上，通过改变该第一反射罩与该第一光源的距离而改变该投射形状，通过改变该第一照明单元与该轴线的角度而改变第一焦点的位置；以及第二照明模块，包括多个第二照明单元，以该轴线为中心而相对地配置，每个第二照明单元包括至少一第二光源以及至少一第二反射罩及一第四反射罩，该第二光源的光线由该第二反射罩或/与该第四反射罩反射后产生一投射形状，该多个第二照明单元的光线汇聚于一第二焦点，该第二焦点位于该轴线上，通过改变该第二照明单元与该轴线的距离而改变第二焦点的位置。 【当前权利人】财团法人工业技术研究院 【当前专利权人地址】中国台湾新竹县 【被引证次数】7 【被他引次数】7.0 【家族引证次数】5.0 【家族被引证次数】7
