【摘要】 本发明公开了一种用于光阻涂布机台的管路压力平衡系统，包括喷嘴组件、排放管路以及第一液封压力平衡瓶。喷嘴组件用以涂布光阻液。排放管路连接至喷嘴组件，以排放光阻液。第一液封压力平衡瓶具有第一短管以及第一长管，第一短管连接至排放管路，第一长管则与管路压力平衡系统外界连通，用以平衡排放管路内的压力。当排放管路内为负压时，通过第一长管自管路压力平衡系统外界补充气体至排放管路，以顺利排放光刻胶液。同时仅需观察第一液封压力平衡瓶内隔绝液体的液面高度是否改变，即能判定排放管路内是否阻塞。 【专利类型】发明授权 【申请人】友达光电股份有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】中国台湾新竹 【申请人地区】中国 【申请人城市】台湾省 【申请号】CN200810001062.9 【申请日】2008-01-18 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101221361B 【公开公告日】2010-06-09 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101221361B 【授权公告日】2010-06-09 【授权公告年份】2010.0 【IPC分类号】G03F7/16 【发明人】郑为元; 陈闵翔; 苏士博; 林志远; 陈豊涵 【主权项内容】一种管路压力平衡系统，用于一光刻胶涂布机台，其特征在于，包括：一喷嘴组件，设置于该光刻胶涂布机台上，用以涂布一光刻胶液；一排放管路，连接至该喷嘴组件，以排放该光刻胶液；以及一第一液封压力平衡瓶，具有一第一短管以及一第一长管，该第一短管连接至该排放管路，该第一长管与该管路压力平衡系统外界连通，以平衡该排放管路内的压力，並且，该第一液封压力平衡瓶内具有一隔绝液体，该第一长管与该第一短管均伸入于该第一液封压力平衡瓶内，且该第一长管还伸入该隔绝液体中，隔绝该光刻胶液与该管路压力平衡系统外界的接触。 【当前权利人】友达光电股份有限公司 【当前专利权人地址】中国台湾新竹 【引证次数】9.0 【他引次数】9.0 【家族引证次数】9.0 【家族被引证次数】1
