【摘要】 一种减少镀膜沉积的夹钳，其包括一本体以及一夹持部。夹持部自本体弯 折延伸且垂直于该本体，以用来夹持一夹持物。夹持部包括一基座、一突出缘 以及两个凹槽。基座连接于本体。突出缘设于基座的一第一侧且突出于基座。 两个凹槽分别设于基座的一第二侧以及相对于第二侧的一第三侧，第二侧以及 第三侧实质上垂直于第一侧。凹槽可用来沉积溅镀时累积的沉积镀膜，以避免 损害玻璃基板。 【专利类型】发明授权 【申请人】友达光电股份有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】中国台湾新竹市 【申请人地区】中国 【申请人城市】台湾省 【申请号】CN200810082114.X 【申请日】2008-03-03 【申请年份】2008 【公开公告号】CN100590222C 【公开公告日】2010-02-17 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN100590222C 【授权公告日】2010-02-17 【授权公告年份】2010.0 【IPC分类号】C23C14/34 【发明人】陈清炜; 吴烱隆 【主权项内容】1.一种减少镀膜沉积的夹钳，包括： 一本体；以及 一夹持部，其自该本体弯折延伸且垂直于该本体，以用来夹持一夹持物， 该夹持部包括： 一基座，其连接于该本体； 一突出缘，其设于该基座的一第一侧且突出于该基座；以及 两个凹槽，其分别设于该基座的一第二侧以及相对于该第二侧的一 第三侧，该第二侧以及该第三侧实质上垂直于该第一侧。 【当前权利人】友达光电股份有限公司 【当前专利权人地址】中国台湾新竹市 【引证次数】4.0 【自引次数】1.0 【他引次数】3.0 【家族引证次数】4.0 【家族被引证次数】5
