【摘要】 本发明公开了一种具曝光补偿的探针制作用掩膜，主要是于一不透光层内设有不相邻接且分散布设的多个探针透光区域。其中，每一探针透光区域包括有一透光补偿区，其是邻接并凸伸于一直角区或一锐角区的一侧，以增加直角区或锐角区的透光面积。据此，本发明考虑曝光的绕射效应，特别适用于锐角小于30度的探针透光区域，而通过直角区、及锐角区外邻接的透光补偿区，使其产生的绕射光在叠加后能得到符合实际要求的几近直角及锐角的探针形状。 【专利类型】发明申请 【申请人】京元电子股份有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】中国台湾新竹市 【申请人地区】中国 【申请人城市】台湾省 【申请号】CN200810183903.2 【申请日】2008-12-09 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101750871A 【公开公告日】2010-06-23 【公开公告年份】2010 【IPC分类号】G03F1/00 【发明人】赵本善; 陈家进 【主权项内容】一种具曝光补偿的探针制作用掩膜，包括：一透光基板；一不透光层，其形成于该透光基板上；以及多个探针透光区域，分散布设于该不透光层上、并且彼此不相邻接，每一探针透光区域至少包括有一长边、及一短边，该长边与该短边之间夹设有一直角区；其特征在于：每一探针透光区域包括有一透光补偿区，该透光补偿区邻接并凸伸于该直角区的一侧，以增加该直角区的透光面积。 【当前权利人】京元电子股份有限公司 【当前专利权人地址】中国台湾新竹市 【被引证次数】5 【被他引次数】5.0 【家族被引证次数】5
