【摘要】 一种缓冲装置与薄膜沉积系统。缓冲装置连接于液态材料供应装置与沉 积机台之间。此缓冲装置包括容器以及挡板。容器用于容纳液态材料供应装 置所供应的液态材料，且此容器的顶部具有输入孔与输出孔。挡板配置于容 器中，且位于输入孔下方。 【专利类型】发明申请 【申请人】联华电子股份有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】中国台湾新竹科学工业园区 【申请人地区】中国 【申请人城市】台湾省 【申请号】CN200810212830.5 【申请日】2008-09-05 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101665928A 【公开公告日】2010-03-10 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101665928B 【授权公告日】2012-12-19 【授权公告年份】2012.0 【IPC分类号】C23C16/54; C23C16/44; H01L21/00; H01L21/31 【发明人】林正聪; 孙兆金; 唐瑞麟; 彭劲凯; 刘宇恒 【主权项内容】1.一种缓冲装置，连接于液态材料供应装置与沉积机台之间，该缓冲装 置包括： 容器，用于容纳该液态材料供应装置所供应的液态材料，该容器的顶部 具有输入孔与输出孔；以及 挡板，配置于该容器中，且位于该输入孔下方。 【当前权利人】联华电子股份有限公司 【当前专利权人地址】中国台湾新竹科学工业园区 【家族引证次数】2.0
