【摘要】 一种利用以制造半导体的制造设备以及制造方法，利用于一湿式工艺化学槽中，利用三个螺旋状错位排列的磁性物体，先对管道本体中管道路径所流通的化学液加以磁化，所述的化学液包含蚀刻液、剥离液、或清洗液等，如此，可提高此半导体湿式工艺的效率。 数据由整理 【专利类型】发明申请 【申请人】鼎岳科技股份有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】中国台湾桃园县 【申请人地区】中国 【申请人城市】台湾省 【申请号】CN200810167493.2 【申请日】2008-10-10 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101728224A 【公开公告日】2010-06-09 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101728224B 【授权公告日】2012-05-23 【授权公告年份】2012.0 【IPC分类号】H01L21/00; H01L21/306; C23F1/08; B08B3/08; G03F7/42; H01L21/02 【发明人】龙仁生 【主权项内容】一种利用于半导体的制造方法，利用于一湿式工艺化学槽中，其特征在于，该制造方法包含下列步骤：导入一化学液进入一管道路径；于该管道路径中磁化该化学液；以及将该管道路径中已被磁化的化学液导入一处理标的。 【当前权利人】鼎岳科技股份有限公司 【当前专利权人地址】中国台湾桃园县 【引证次数】3.0 【被引证次数】2 【他引次数】3.0 【被他引次数】2.0 【家族引证次数】6.0 【家族被引证次数】2
