【摘要】 一种投影装置，包括第一激光光源，提供具有高相干性的第一光束；第二激光光源，提供具有高相干性的第二光束；第三激光光源，提供具有高相干性的第三光束；合光元件，包括第一表面，其中，所述第一光束、所述第二光束和所述第三光束入射至所述合光元件，并在所述合光元件混成混成光束；扩散片，设在所述合光元件的所述第一表面上，供所述第一光束、所述第二光束和所述第三光束入射；以及致动元件，连接所述合光元件，以致动所述合光元件，用于改变所述第一光束、所述第二光束和所述第三光束入射至所述扩散片的位置。 ： 【专利类型】发明授权 【申请人】中强光电股份有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】中国台湾新竹科学工业园区 【申请人地区】中国 【申请人城市】台湾省 【申请号】CN200810001950.0 【申请日】2008-01-04 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101477295B 【公开公告日】2010-10-06 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101477295B 【授权公告日】2010-10-06 【授权公告年份】2010.0 【IPC分类号】G03B21/00; G03B21/14; G02B5/02; H04N9/31 【发明人】王俊勋 【主权项内容】一种投影装置，包括：第一激光光源，提供具有高相干性的第一光束；第二激光光源，提供具有高相干性的第二光束；第三激光光源，提供具有高相干性的第三光束；合光元件，包括第一表面，其中，所述第一光束、所述第二光束和所述第三光束入射至所述合光元件，并在所述合光元件混成混成光束；扩散片，设在所述合光元件的所述第一表面上，供所述第一光束、所述第二光束和所述第三光束入射；以及致动元件，连接所述合光元件，以致动所述合光元件，用于改变所述第一光束、所述第二光束和所述第三光束入射至所述扩散片的位置。 【当前权利人】中强光电股份有限公司 【当前专利权人地址】中国台湾新竹科学工业园区 【引证次数】8.0 【他引次数】8.0 【家族引证次数】8.0 【家族被引证次数】5
