【摘要】 本发明提供偏轴光源、遮光板及以单次曝光定义不同形态图案的方法。 一种偏轴光源，其照光面上有一X偶极照光图案、一Y偶极照光图案以及 一四极照光图案，其中该四极照光图案的照光面积小于该X或Y偶极照光 图案。本发明并提出一种可用以构成上述偏轴光源的具有对应开口的遮光 板，以及利用上述偏轴光源的一种以单次曝光定义不同形态图案的方法。 【专利类型】发明申请 【申请人】力晶半导体股份有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】中国台湾新竹科学工业园区 【申请人地区】中国 【申请人城市】台湾省 【申请号】CN200810165773.X 【申请日】2008-09-23 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101685261A 【公开公告日】2010-03-31 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101685261B 【授权公告日】2011-04-06 【授权公告年份】2011.0 【IPC分类号】G03F7/20; G02B27/00 【发明人】张宜翔 【主权项内容】1.一种偏轴光源，其照光面上有一X偶极照光图案、一Y偶极照光图案 以及一四极照光图案，其中该四极照光图案的照光面积小于该X或Y偶极 照光图案的照光面积。 【当前权利人】力晶积成电子制造股份有限公司 【当前专利权人地址】中国台湾新竹科学工业园区 【被引证次数】2 【被他引次数】2.0 【家族引证次数】2.0 【家族被引证次数】2
