【摘要】 本发明公开了一种关键尺寸补偿方法。首先，提供光源与主要光掩模。 其次，提供辅助光掩模系和该主要光掩模依序排列，其包含辅助透明基板以 及位于辅助透明基板中的遮蔽元件。然后，藉由光源在依序通过辅助光掩模 与主要光掩模后，则可在基材中，因为该光源在通过遮蔽元件时会产生不同 的反应，故可补偿元件布局图案的关键尺寸。 【专利类型】发明申请 【申请人】南亚科技股份有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】中国台湾桃园县 【申请人地区】中国 【申请人城市】台湾省 【申请号】CN200810149416.4 【申请日】2008-09-12 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101673050A 【公开公告日】2010-03-17 【公开公告年份】2010 【IPC分类号】G03F1/14; G03F7/20; G03F1/38; G03F1/72 【发明人】陈宣克; 汪美里; 金持正; 范倍诚 【主权项内容】1.一种关键尺寸补偿方法，其特征在于包含： 提供一光源； 提供一主要光掩模；以及 提供一辅助光掩模，该辅助光掩模和该主要光掩模依序排列，并包含一 辅助透明基板以及一位于该辅助透明基板中的遮蔽元件，由此，该光源在依 序通过该辅助光掩模与该主要光掩模后，则可在基材中，补偿元件布局图案 的关键尺寸，其中该遮蔽元件是利用遮蔽该光源所通过的区域以补偿元件布 局图案的关键尺寸。 【当前权利人】南亚科技股份有限公司 【当前专利权人地址】中国台湾桃园县 【引证次数】1.0 【被引证次数】6 【他引次数】1.0 【被他引次数】6.0 【家族引证次数】1.0 【家族被引证次数】6
