【摘要】 本发明是有关于一种发光结构，其包括：一导光件，包括一弧形入光面、一导光壁、一斜导光壁及一倾斜出光面，该弧形入光面与该导光壁相邻设置，而该导光壁与该斜导光壁相邻设置；以及一光源，该光源是相对于该弧形入光面而设置；其中，该光源发射光线，光线由该弧形入光面进入该导光件中，而光线藉由该导光壁、该弧形入光面及该斜导光壁平均地被传至该倾斜出光面上。因此，本发明可以使光线平均地被传至整个倾斜出光面上，可以有效避免发光结构发光不均匀的问题。 【专利类型】发明申请 【申请人】英华达股份有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】中国台湾台北县 【申请人地区】中国 【申请人城市】台湾省 【申请号】CN200810187354.6 【申请日】2008-12-29 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101769503A 【公开公告日】2010-07-07 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101769503B 【授权公告日】2012-07-04 【授权公告年份】2012.0 【IPC分类号】F21V8/00; F21Y101/02 【发明人】张思忠 【主权项内容】一种发光结构，其特征在于其包括：一导光件，包括一弧形入光面、一导光壁、一斜导光壁及一倾斜出光面，该弧形入光面与该导光壁相邻设置，而该导光壁与该斜导光壁相邻设置；以及一光源，该光源是相对于该弧形入光面而设置；其中，该光源发射光线，光线由该弧形入光面进入该导光件中，而光线藉由该导光壁、该弧形入光面及该斜导光壁平均地被传至该倾斜出光面上。。 【当前权利人】英华达股份有限公司 【当前专利权人地址】中国台湾台北县 【被引证次数】3 【被他引次数】3.0 【家族引证次数】4.0 【家族被引证次数】3
