【摘要】 一种散热结构，该散热结构固定设置于一发热元件表面，其中，该散热 结构包括一图形化的碳纳米管阵列与一固定层，该散热结构通过该固定层固 定于该发热元件上。一种散热结构的制备方法，其包括以下步骤：提供一发 热元件，该发热元件具有一表面；设置一熔融态固定层于发热元件的表面； 制备一碳纳米管阵列形成于一基底，该碳纳米管阵列具有一第一端及与第一 端相对的第二端，第二端与基底连接；将上述碳纳米管阵列的第一端插入该 固定层中，冷却该固定层至其凝固；除去碳纳米管阵列的基底；以及将碳纳 米管阵列图形化，在发热元件的表面上形成一散热结构。 【专利类型】发明申请 【申请人】清华大学; 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 【申请人类型】企业,学校 【申请人地址】100084北京市海淀区清华园1号清华大学清华-富士康纳米科技研究中心401室 【申请人地区】中国 【申请人城市】北京市 【申请人区县】海淀区 【申请号】CN200810068460.2 【申请日】2008-07-11 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101626674A 【公开公告日】2010-01-13 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101626674B 【授权公告日】2015-07-01 【授权公告年份】2015.0 【发明人】范守善; 姜开利; 刘长洪; 刘亮 【主权项内容】1.一种散热结构，该散热结构固定设置于一发热元件表面，其特征在于，该 散热结构包括一图形化的碳纳米管阵列与一固定层，该图形化的碳纳米管 阵列通过该固定层固定于该发热元件上。 【当前权利人】清华大学; 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 【当前专利权人地址】北京市海淀区清华园1号清华大学清华-富士康纳米科技研究中心401室; 广东省深圳市宝安区龙华镇油松第十工业区东环二路2号 【专利权人类型】公立; 有限责任公司(外国法人独资) 【统一社会信用代码】12100000400000624D; 914403007084307436 【被引证次数】11 【被自引次数】4.0 【家族被引证次数】24
