【摘要】 本发明提供了一种光束合成方法，将多条入射光束耦合进入折射率等 于零的材料中，并由所述折射率等于零的材料的平面型出射面出射；本发 明的光束合成方法，使用有效折射率等于零的低折射率材料将多路入射光 在空间合成一束，具有如下优点：合成光束的功率是多束入射光功率的和； 合成光束的发散角趋近于零，且光束质量不受入射光的限制，这将对光束 合成技术的发展具有重要意义；本发明的合成方法适用于连续、脉冲等各 种运转方式的激光，也适用于LED光等普通光束，同时无需精密调节光 路，且结构简单，使用的光学器件少，具有成本低廉、适用范围广、操作 简便和稳定性高等优点。 【专利类型】发明申请 【申请人】中国科学院理化技术研究所 【申请人类型】科研单位 【申请人地址】100190北京市海淀区中关村北一条2号 【申请人地区】中国 【申请人城市】北京市 【申请人区县】海淀区 【申请号】CN200810117576.0 【申请日】2008-08-01 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101639601A 【公开公告日】2010-02-03 【公开公告年份】2010 【发明人】许祖彦; 高宏伟; 彭钦军; 许家林; 崔大复; 薄勇; 王志敏 【主权项内容】1.一种光束合成方法，将多条入射光束耦合进入折射率等于零的材料 中，并由所述折射率等于零的材料的平面型出射面出射。 【当前权利人】中国科学院理化技术研究所 【当前专利权人地址】北京市海淀区中关村北一条2号 【统一社会信用代码】12100000717800662F 【被引证次数】TRUE 【家族被引证次数】TRUE
