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半导体加工设备及其传输系统及基片的传输方法专利

发布时间:2026-06-11

【摘要】 本发明公开了一种半导体加工设备及其传输系统及基片的传输方法,在传输系统的基片缓冲盒下方加装驱动装置,驱动装置一端固定在EFEM上,另一端和缓冲盒连接,使得缓冲盒能够在纵向上下移动。通过缓冲盒和机械手在纵向的移动,适应机械手从缓冲盒中不同的基片插槽中取、放基片。这样,缓冲盒在竖直方向上布置的个数和槽位不受机械手上下移动行程的限制,可以在竖直方向上集成2个或多个缓冲盒,或将2个或多个缓冲盒设计成一个可装50片以上基片的大缓冲盒。不影响机台的维护性,不占用机台外部空间,不影响机台其它设备的集成,且对机台美观性没有影响。。 【专利类型】发明申请 【申请人】北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】100016 北京市朝阳区酒仙桥东路1号M5座2楼 【申请人地区】中国 【申请人城市】北京市 【申请人区县】朝阳区 【申请号】CN200810225186.5 【申请日】2008-10-30 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101764076A 【公开公告日】2010-06-30 【公开公告年份】2010 【IPC分类号】H01L21/677; H01L21/67; H01L21/00 【发明人】韦磊 【主权项内容】一种半导体加工设备的传输系统,包括大气端部分,其特征在于,所述大气端部分设有基片缓冲盒,所述基片缓冲盒连接有驱动装置,所述驱动装置用于驱动所述基片缓冲盒沿竖直方向移动。。 【当前权利人】北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 【当前专利权人地址】北京市朝阳区酒仙桥东路1号M5座2楼 【专利权人类型】有限责任公司 【统一社会信用代码】91110302801786752A 【引证次数】1.0 【被引证次数】4 【他引次数】1.0 【被他引次数】4.0 【家族引证次数】1.0 【家族被引证次数】4

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  • 【摘要】一种特种功能织物及其制品的制造技术,特别是抗静电服装用品的制造 方法其特征在于它的配方和工艺如下:(抗静电剂SE溶入水中得处理液) 其用量用法如下: 涤纶织物浸轧法: 浸轧处理液40~60gL,轧液率80%→干燥(100~110℃)
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