【摘要】 本发明公开了一种抽气装置及半导体加工装置，抽气装置为筒状结构，中部形成腔体，上端和下端分别设有法兰，侧壁上设有一个或多个开口，侧壁中沿轴向设有多条气体通道，筒状结构的下部设有匀流空腔，多条气体通道的下端分别与匀流空腔相通。当半导体加工装置的工艺腔室的下部设有这种抽气装置后，下电极可以部分置于抽气装置中部的腔体中，既可以通过侧壁中的气体通道实现对工艺腔室的抽气，又可以通过侧壁上的开口对下电极进行维护和操作。提高了维护效率，减少了停机时间。 【专利类型】发明申请 【申请人】北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】100016 北京市朝阳区酒仙桥东路1号M5座2楼 【申请人地区】中国 【申请人城市】北京市 【申请人区县】朝阳区 【申请号】CN200810225188.4 【申请日】2008-10-30 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101764042A 【公开公告日】2010-06-30 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101764042B 【授权公告日】2011-09-14 【授权公告年份】2011.0 【IPC分类号】H01L21/00; C23C14/56; C23C16/54; F04D19/04; H01J37/32; B01J3/03; F04D19/00 【发明人】刘少锋 【主权项内容】一种抽气装置，其特征在于，该抽气装置为筒状结构，包括侧壁，所述侧壁上设有一个或多个开口，所述侧壁中沿轴向设有一条或多条气体通道。 【当前权利人】北京北方华创微电子装备有限公司 【当前专利权人地址】北京市大兴区经济技术开发区文昌大道8号 【专利权人类型】有限责任公司 【统一社会信用代码】91110302801786752A 【被引证次数】5 【被他引次数】5.0 【家族引证次数】3.0 【家族被引证次数】5
