【摘要】 本发明涉及一种有机电致发光器件及其制造方法，其中方法包括：步骤1、在基板上形成第一电极；步骤2、在基板上连续形成非光敏性有机绝缘材料和正性光刻胶，采用掩模板对正性光刻胶进行曝光，然后显影和刻蚀，并保留正性光刻胶，形成绝缘层图形；步骤3、在经过步骤2的基板上形成正性光刻胶，采用能够形成隔离柱的掩模板对步骤3中形成的正性光刻胶进行曝光和显影，形成隔离柱图形；步骤4、在经过步骤3之后的基板上形成有机材料层；步骤5、在经过步骤4之后的基板上形成第二电极。该方法避免采用价格昂贵的光敏性有机绝缘材料，能够降低绝缘层的生产成本，并克服绝缘层和隔离柱之间由于材料差异导致的接触不稳定的问题。 【专利类型】发明申请 【申请人】京东方科技集团股份有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】100016 北京市朝阳区酒仙桥路10号 【申请人地区】中国 【申请人城市】北京市 【申请人区县】朝阳区 【申请号】CN200810227260.7 【申请日】2008-11-25 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101740726A 【公开公告日】2010-06-16 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101740726B 【授权公告日】2012-09-19 【授权公告年份】2012.0 【IPC分类号】H01L51/56; H01L51/50 【发明人】王玉林 【主权项内容】一种有机电致发光器件制造方法，其特征在于，包括：步骤1、在基板上形成第一电极；步骤2、在形成有所述第一电极的基板上连续形成非光敏性有机绝缘材料和正性光刻胶，采用能够形成绝缘层图形的掩模板对所述正性光刻胶进行曝光，然后显影和刻蚀，并保留正性光刻胶，形成绝缘层图形；步骤3、在经过所述步骤2的基板上形成正性光刻胶，采用能够形成隔离柱的掩模板对所述步骤3中形成的正性光刻胶进行曝光和显影，形成隔离柱图形；步骤3中形成的正性光刻胶的材料与步骤2中形成的正性光刻胶材料相同；步骤4、在经过所述步骤3之后的基板上形成有机材料层；步骤5、在经过所述步骤4之后的基板上形成第二电极。 【当前权利人】京东方科技集团股份有限公司 【当前专利权人地址】北京市朝阳区酒仙桥路10号 【专利权人类型】其他股份有限公司(上市) 【统一社会信用代码】911100001011016602 【被引证次数】14 【被自引次数】9.0 【被他引次数】5.0 【家族引证次数】3.0 【家族被引证次数】14
