【摘要】 本发明公开了一种腔室窗及等离子体工艺腔室，腔室窗包括上盖，上盖的下表面设有内衬，腔室窗的边缘部位设有楔形支座，上盖和内衬支撑于楔形支座上，上盖与楔形支座之间设有密封圈，楔形支座支撑于工艺腔室的腔体上。工艺过程中，上盖部分主要承受大气压力；内衬部分主要抵抗等离子气体轰击和腐蚀，对上盖起到保护作用，可以通过更换内衬，延长上盖的使用寿命，减小对加工工艺的影响。 【专利类型】发明申请 【申请人】北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】100016 北京市朝阳区酒仙桥东路1号M5座2楼 【申请人地区】中国 【申请人城市】北京市 【申请人区县】朝阳区 【申请号】CN200810226478.0 【申请日】2008-11-12 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101740336A 【公开公告日】2010-06-16 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101740336B 【授权公告日】2013-03-27 【授权公告年份】2013.0 【IPC分类号】H01L21/00; H01L21/3065; H01J37/32; H01L21/02 【发明人】李俊杰 【主权项内容】一种腔室窗，包括上盖，其特征在于，所述上盖的下表面设有内衬。 【当前权利人】北京北方华创微电子装备有限公司 【当前专利权人地址】北京市大兴区经济技术开发区文昌大道8号 【专利权人类型】有限责任公司 【统一社会信用代码】91110302801786752A 【被引证次数】5 【被自引次数】3.0 【被他引次数】2.0 【家族引证次数】4.0 【家族被引证次数】5
