【摘要】 本发明公开了一种基片载板，用于等离子体处理设备，包括具有多个安置腔的载板本体，所述基片由所述安置腔中的支撑部件支撑；自所述载板本体的中心部位向外周部位，各所述安置腔中支撑部件的顶部所处的位置依次上升。本发明还公开了包括上述基片载板的等离子体处理设备。自气体分配装置中心部位的气孔输出的气体到达相应基片表面时所经过的距离相对较长，因而扩散程度相对较高；自所述气体分配装置外周部位的气孔输出的气体到达相应基片表面时所经过的距离相对较短，因而扩散程度相对较低。这样就可以有效抵消不同位置的气孔所输出的气体之间的浓度差异，使得基片载板上不同位置的基片表面的气体浓度更为均一。 【专利类型】发明申请 【申请人】北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】100016 北京市朝阳区酒仙桥东路1号 【申请人地区】中国 【申请人城市】北京市 【申请人区县】朝阳区 【申请号】CN200810226608.0 【申请日】2008-11-17 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101740448A 【公开公告日】2010-06-16 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101740448B 【授权公告日】2011-04-27 【授权公告年份】2011.0 【IPC分类号】H01L21/683; H01L21/00; C23C16/458; C23C14/50; C23F4/00; H01J37/32; H01L21/67 【发明人】林挺昌 【主权项内容】微信 一种基片载板，用于等离子体处理设备，包括具有多个安置腔的载板本体，所述基片由所述安置腔中的支撑部件支撑；其特征在于，自所述载板本体的中心部位向外周部位，各所述安置腔中支撑部件的顶部所处的位置依次上升。 【当前权利人】北京北方华创微电子装备有限公司 【当前专利权人地址】北京市大兴区经济技术开发区文昌大道8号 【专利权人类型】有限责任公司 【统一社会信用代码】91110302801786752A 【被引证次数】7 【被自引次数】6.0 【被他引次数】1.0 【家族引证次数】4.0 【家族被引证次数】7
