【摘要】 本发明公开了一种液晶显示器阵列基板的制造方法，包括如下步骤：提 供依次形成有栅线、栅绝缘层及有源层图形的基板；在完成步骤1的基板上 依次沉积第一透明导电层及源漏金属层；在所述源漏金属层上部，通过三调 掩膜板形成感光层；湿法蚀刻所述感光层暴露出的源漏金属层及第一透明导 电层；对所述感光层进行第一次灰化工艺，对暴露出的源漏金属层、第一透 明导电层及有源层图形进行干法蚀刻；对所述感光层进行第二次灰化工艺， 对暴露出的源漏金属层进行湿法蚀刻；去掉剩余的感光层。本发明能够降低 TFT沟道的过度蚀刻的程度，保障液晶显示器的显示性能。 【专利类型】发明申请 【申请人】北京京东方光电科技有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】100176北京市经济技术开发区西环中路8号 【申请人地区】中国 【申请人城市】北京市 【申请人区县】大兴区 【申请号】CN200810222792.1 【申请日】2008-09-25 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101685229A 【公开公告日】2010-03-31 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101685229B 【授权公告日】2012-02-29 【授权公告年份】2012.0 【IPC分类号】G02F1/1362; G03F7/00; H01L27/12; H01L21/84 【发明人】崔承镇; 宋泳锡; 刘圣烈 【主权项内容】1、一种液晶显示器阵列基板的制造方法，其特征在于，包括： 步骤1、提供依次形成有栅线、栅绝缘层及有源层图形的基板； 步骤2、在完成步骤1的基板上依次沉积第一透明导电层及源漏金属层； 步骤3、在所述源漏金属层上部，通过三调掩膜板形成感光层； 步骤4、湿法蚀刻所述感光层暴露出的源漏金属层及第一透明导电层； 步骤5、对所述感光层进行第一次灰化工艺，对暴露出的源漏金属层、 第一透明导电层及有源层图形进行干法蚀刻； 步骤6、对所述感光层进行第二次灰化工艺，对暴露出的源漏金属层进 行湿法蚀刻； 步骤7、去掉剩余的感光层。。 【当前权利人】京东方科技集团股份有限公司; 北京京东方光电科技有限公司 【当前专利权人地址】北京市朝阳区酒仙桥路10号; 北京市大兴区北京经济技术开发区西环中路8号 【专利权人类型】有限责任公司(台港澳与境内合资) 【统一社会信用代码】911103027493533932 【被引证次数】24 【被自引次数】18.0 【被他引次数】6.0 【家族引证次数】21.0 【家族被引证次数】41
