【摘要】 一种平面反射式复眼冷光源曝光系统，属于光刻技术领域。包括：灯源组、多面镜组装置、反光镜组、曝光装置等，其特征在于，多面镜组装置，包括上层镜座、下层镜座，上层镜座紧密叠合于下层镜座上；上层镜座包括：上盘、上镜片压圈、上盘反光片，上镜片压圈置于上盘、上盘反光片之间，上盘反光片依次紧密环行成圈放列于上盘内；下层镜座结构类似上层镜座。反光镜组包括：小反光镜组、大反光镜组，小反光镜组、大反光镜组平行对峙放置，并与水平夹角为45°。本发明提出了多层反射镜的位置排列，大大提高了曝光均匀性，并拓展为更大的曝光面积。。数据由整理 【专利类型】发明授权 【申请人】上海学泽光学机械有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】201108 上海市闵行区老沪闵路1901号 【申请人地区】中国 【申请人城市】上海市 【申请人区县】闵行区 【申请号】CN200810037366.0 【申请日】2008-05-14 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101349814B 【公开公告日】2010-04-07 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101349814B 【授权公告日】2010-04-07 【授权公告年份】2010.0 【IPC分类号】G02B27/00; G03F7/20 【发明人】张岳方 【主权项内容】一种平面反射式复眼冷光源曝光系统，包括：灯源组、多面镜组装置、反光镜组、曝光装置、罩壳，灯源组的光源中心置于多面镜组装置的中心点，反光镜组、曝光装置置于罩壳内，其特征在于，所述的灯源组，包括超高压汞灯、超高压汞灯架，超高压汞灯固定于超高压汞灯架；所述的多面镜组装置，包括上层镜座、下层镜座，上层镜座紧密叠合于下层镜座上；所述的上层镜座包括：上盘、上镜片压圈、上盘反光片，上镜片压圈置于上盘、上盘反光片之间，上盘反光片依次紧密环行成圈放列于上盘内；所述的下层镜座包括：下盘、下镜片压圈、下盘反光片，下镜片压圈置于下盘、下盘反光片之间，下盘反光片依次紧密环行成圈放列于下盘内；所述上盘反光片以及下盘反光片为平面反光片，共有64个，所述64个平面反光片每片与超高压汞灯光源中心之间的夹角U为5.16°；所述的反光镜组包括：小反光镜组、大反光镜组，小反光镜组、大反光镜组平行对峙放置，并与水平夹角为45°；所述的曝光装置包括：快门组、曝光准镜组、准直座轴、工作曝光面，快门组置于小反光镜组、大反光镜组之间，快门组、曝光准镜组、工作曝光面适应于光路依次放置。 【当前权利人】上海学泽光学机械有限公司 【当前专利权人地址】上海市闵行区老沪闵路1901号 【专利权人类型】有限责任公司 【统一社会信用代码】91310112734570758L 【引证次数】4.0 【自引次数】1.0 【他引次数】3.0 【家族引证次数】4.0
