【摘要】 一种纳米光刻对准系统，其特征在于：对准光源发出的光线经透镜A、分光镜A反射、显微物镜后照射在掩模和硅片上，掩模和硅片上的衍射光栅标记在对准光源作用下产生衍射光束干涉条纹，掩模上的对准标记图像经显微物镜、分光镜A、分光镜B、透镜B到达反射镜A，经反射镜A反射回来的光线经透镜B、分光镜B到达CCD进行成像；硅片上的对准标记图像经掩模、显微物镜、分光镜A和分光镜B透射后到达补偿光路，从补偿光路反射回的光线，经分光镜B到达CCD进行成像；CCD同时对掩模和硅片上的光栅对准标记成像；基于CCD采集的干涉条纹图像，采用傅立叶变换方法编码相对空间相位差异，实现双焦点高精度对准。该系统具有对准标记采集视场大、对准精度高等特点。 【专利类型】发明授权 【申请人】中国科学院光电技术研究所 【申请人类型】科研单位 【申请人地址】610209 四川省双流350信箱 【申请人地区】中国 【申请人城市】成都市 【申请人区县】双流区 【申请号】CN200810111724.8 【申请日】2008-05-15 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101281378B 【公开公告日】2010-12-15 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101281378B 【授权公告日】2010-12-15 【授权公告年份】2010.0 【IPC分类号】G03F7/20; G03F9/00 【发明人】马平; 邢薇; 胡松; 唐小萍; 王建 【主权项内容】一种纳米光刻对准系统，其特征在于：它包括对准光源(110)、透镜A(111)、硅片(112)、掩模(113)、显微物镜(114)、分光镜A(115)、CCD(116)、分光镜B(117)、透镜B(118)、反射镜A(119)，和由透镜C(201)反射镜B(202)组成补偿光路；当对准光源(110)发出的光线经透镜A(111)、分光镜A(115)反射、再经显微物镜(114)后照射在掩模(113)和硅片(112)上，掩模(113)和硅片(112)上的衍射光栅标记在对准光源(110)的作用下产生衍射光束干涉条纹，掩模(113)上的对准标记图像经显微物镜(114)、分光镜A(115)透射后，经分光镜B(117)反射通过透镜B(118)、到达反射镜A(119)，再由反射镜A(119)再次反射回来的光线经透镜B(118)，通过分光镜B(117)透射到达CCD(116)进行成像；而另一路硅片(112)上的对准标记图像经掩模(113)、显微物镜(114)后、通过分光镜A(115)和分光镜B(117)透射后、到达补偿光路(200)，从补偿光路(200)反射回来的光线，经分光镜B(117)反射到达CCD(116)进行成像；此时，CCD(116)同时对掩模(113)和硅片(112)上的光栅对准标记所形成的空间干涉莫尔条纹进行成像；基于CCD(116)采集到的干涉条纹图像，本系统采用傅立叶变换方法编码相对空间相位差异，实现双焦点高精度对准；掩模(113)与硅片(112)具有一定间隙，用以保证在对准时掩模(113)和硅片(112)不会受套刻次数的影响而磨损；通过补偿光路(200)光程的改变量测量掩模(113)与硅片(112)之间的曝光间隙；并通过调整补偿光路(200)，使掩模(113)和硅片(112)上的光栅标记到CCD(116)像面的光程保持一致、成像放大率保持一致，清晰成像；其中补偿光路(200)由透镜C(201)、反射镜B(202)组成。 微信 【当前权利人】中国科学院光电技术研究所 【当前专利权人地址】四川省双流350信箱 【统一社会信用代码】12100000450811820A 【家族被引证次数】16
